산소와 질소를 분리하는 탄소 분자체의 원리

탄소 분자체 압력 스윙 흡착 질소 생산은 산소와 질소를 분리하는 van der Waals 힘을 기반으로 합니다. 산소 분자의 동적 직경은 0.346nm이고 질소 분자의 동적 직경은 0.364nm입니다. 분자 직경과 질소 분자 직경 사이에서 산소와 질소의 분리에 가장 도움이 되며 가장 높은 분리 효율을 제공합니다. 사실, 탄소 분자체의 기공은 0.32nm에서 0.38nm 사이에 흩어져 있습니다. 탄소 분자체가 가스를 흡착할 때 거대기공과 중간기공은 채널 역할만 하고 흡착된 분자는 미세기공과 미세공하공으로 운반됩니다. 미세기공(micropores) 및 미세기공하(submicropores)(<0.38nm ) These micropores allow gas molecules with small kinetic dimensions to diffuse quickly into the pores while restricting the entry of large diameter molecules. Due to differences in the relative diffusion rates of gas molecules of different sizes, the components of the gas mixture can be effectively separated. The pore size of the micropores is the basis for the separation of oxygen and nitrogen by the carbon molecular sieve. If the pore size is too large, the oxygen and nitrogen molecules can easily enter the micropores and cannot play the role of separation; while the pore size is too small, the oxygen and nitrogen molecules cannot enter In the micropores, there is no separation effect.

우리 회사에서 생산하는 탄소 분자체는 자체 발명한 미세 기공 조정 제어 공정을 사용합니다. 탄소 분자체를 가공하는 동안 미세 기공을 정밀하게 조정한 다음 당사에서 독자적으로 개발한 질소 생산 공정을 일치시켜 탄소 분자체의 사용을 극대화합니다. 성능, 동일한 흡착 압력에서 더 많은 질소를 생성하고 더 적은 공기를 소비할 수 있습니다.